第1题 (共6分)
实验室制备少量硅一般采用镁粉还原SiO2的方法,然后用稀盐酸洗涤产品以除去杂质。某同学在进行上述操作时,在制得的产品中加HCl洗涤时突然起火。
(1) 请用化学方程式解释:
①稀盐酸洗涤产品可除去哪些主要杂质?
②为什么加HCl洗涤时突然起火?
(2) 请设计一个实验来验证你的解释。(不必画出装置图,也不必指出具体化学药品,不要写方程式,只要简明指出方法。)
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